BOSS戰(zhàn)：Alpha Ceph

　　BOSS攻擊方式：

　　1：3個(gè)鉆頭隨機(jī)釋放遠(yuǎn)程光線，傷害較低。

　　2：旋轉(zhuǎn)沖擊(碰到必死)

　　BOSS站技巧：

　　P1：BOSS的弱點(diǎn)在于3個(gè)鉆頭的連接處，只有在遭受重創(chuàng)后會(huì)發(fā)光顯露。平臺(tái)上方有大量的彈藥武器與能量武器，平臺(tái)下方有彈藥補(bǔ)給與能量補(bǔ)給。使用火箭炮X2或者能量武器對(duì)其進(jìn)行轟炸，會(huì)迅速打出弱點(diǎn)。消滅第一只鉆頭后，會(huì)被吸到BOSS身邊，狂按A進(jìn)入P2。

　　P2：BOSS消失后會(huì)出現(xiàn)Ceph獵手X5，護(hù)甲較高，可以拾取周圍尸體上的能量武器，站在紅色能量附近進(jìn)行持續(xù)輸出。BOSS再次出現(xiàn)后，重復(fù)P1方法，躲避旋轉(zhuǎn)沖擊，再次被拉到身邊，狂按A進(jìn)入P3。

　　P3：BOSS消失后會(huì)出現(xiàn)Ceph獵手X5與Ceph重型機(jī)械X1。注意：如果長(zhǎng)時(shí)間沒(méi)有消滅，BOSS也會(huì)出現(xiàn)。建議每一階段之前，找到重火力武器放置在平臺(tái)下方，BOSS出現(xiàn)后立即進(jìn)行轟炸，打出硬直。當(dāng)再次被吸到BOSS身邊后狂按A，進(jìn)入動(dòng)畫(huà)，發(fā)射炸藥弓箭發(fā)起最后一擊。

　　站在平臺(tái)下方可以卡攻擊視角

　　BOSS戰(zhàn)時(shí)，隱形對(duì)敵人有效

　　當(dāng)紅色弱點(diǎn)顯露時(shí)，迅速瞄準(zhǔn)并摧毀，過(guò)段時(shí)間會(huì)關(guān)閉，需要重復(fù)進(jìn)攻。

　　能量武器是最優(yōu)選擇，尤其是站在能量源附近時(shí)。

　　紅色能量源，平臺(tái)上下都可以找到。

　　發(fā)動(dòng)最后一擊

　　主線攻略更新完畢，感謝收看!